特許
J-GLOBAL ID：200903000242850977
高解像ポジティブ型乾燥膜フォトレジスト
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-340012
公開番号（公開出願番号）：特開平10-213903
出願日： 1997年12月10日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：
【要約】【課題】 接触方式での露光描画中のアートワークのテンティングおよびネガティブ型乾燥膜に比べて遅い露光速度などの性能限界を克服しており、従来からネガティブ型乾燥膜フォトレジストに使用されている化学物質および設備を用いて感光、現像することができるポジティブ型液体フォトレジストを提供する。【解決手段】 アルカリ性水溶液中で剥ぎ取り可能なポジティブ型フォトレジスト組成物(例えば単一層乾燥膜)は、光酸発生剤と、光活性成分の有効な光退色を可能にする、紫外線に対して透明な樹脂バインダー系とを含んでいる。酸官能基を有するセルロース樹脂が唯一のバインダー樹脂であってもよく、酸性アクリル樹脂は任意のものである。乾燥コーティングは可撓性であり、エッチングおよびめっき用レジストとして使用してもよい。
請求項（抜粋）：
光酸発生剤とバインダー樹脂とを含んでいるポジティブ型フォトレジスト組成物であって、そのバインダー樹脂が(a)下記構造【化1】(上式中、R、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または-C(=O)R' (COOR" )m (ここで、R'はアルキレン、フェニレン、またはシクロヘキシレンであり、mは1または2であって、mが1のときはR''は水素であり、mが2のときは少なくとも1つのR" が水素であり、他方は1〜4個の炭素原子を有するアルキルである)であり、但し、R、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 の少なくとも1つは-C(=O)R' (COOR" )m であり、他のR、R1 、R2 、R3 、R4 およびR5 の少なくとも1つはアルキル、ヒドロキシアルキル、アシル、または-C(=O)R' (COOR" )m であるものとする)を有し、酸官能基を有するセルロース樹脂、および(b)樹脂の総合重量に対して0〜25重量%の酸性アクリル樹脂からなる組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/039 501
, C08K 5/42
, C08L 1/08
, C09D 7/12
, C09D101/08
, G03F 7/004 503
, C08L 33/00
, C09D133/00
G03F 7/039 501
, C08K 5/42
, C08L 1/08
, C09D 7/12 Z
, C09D101/08
, G03F 7/004 503 Z
, C08L 33/00
, C09D133/00
