特許
J-GLOBAL ID:200903000242986623

塩化水素とホスゲンの混合物を分離する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江藤 聡明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-561291
公開番号(公開出願番号):特表2006-510695
出願日: 2003年12月13日
公開日(公表日): 2006年03月30日
要約:
本発明は、アミンとホスゲンとの反応によるイソシアナートの製造において主として得られる塩化水素、ホスゲン、場合により溶媒、および、場合により低沸点物質および不活性物質を含む混合物を部分的または完全に分離する方法であって、第1にホスゲンを部分的にまたは完全に凝縮させ、次いで塔内で蒸留またはストリッピングすることにより塔底生成物のホスゲンから塩化水素を除去し、次いで搭頂生成物の塩化水素をプロセス溶媒を使用してスクラビングしてこのプロセス溶媒にホスゲンを吸収させることを含む方法である。活性炭上への吸着または他の適当な方法による後精製を行い、溶媒残渣を除去することができる。
請求項(抜粋):
アミンとホスゲンとの反応によるイソシアナートの製造において主として得られる塩化水素、ホスゲン、場合により溶媒、および、場合により低沸点物質および不活性物質を含む混合物を部分的または完全に分離する方法であって、 第1にホスゲンを部分的にまたは完全に凝縮させ、 次いで塔内で蒸留またはストリッピングすることにより、塔底生成物のホスゲンから塩化水素を除去し、 次いでプロセス溶媒を使用して搭頂生成物の塩化水素をスクラビングし、このプロセス溶媒にホスゲンを吸収させる、 ことを含む方法。
IPC (5件):
C07C 263/20 ,  C01B 7/01 ,  C01B 31/28 ,  C07C 263/10 ,  C07C 265/00
FI (5件):
C07C263/20 ,  C01B7/01 H ,  C01B31/28 ,  C07C263/10 ,  C07C265/00
Fターム (14件):
4H006AA02 ,  4H006AA05 ,  4H006AC55 ,  4H006AD11 ,  4H006AD18 ,  4H006AD40 ,  4H006BB12 ,  4H006BC51 ,  4H006BC52 ,  4H006BD33 ,  4H006BD40 ,  4H006BD51 ,  4H006BD82 ,  4H006BE52
引用特許:
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (3件)
  • 特開昭58-024553
  • 特公昭51-006126
  • 特公昭48-016905

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