特許

J-GLOBAL ID：200903000250030962

座標測定装置を制御する方法及び座標測定装置

発明者： オットー・ルック ,  ラルフ・ベルンハルト ,  マーティン・ヴィマー
出願人/特許権者： カール・ツアイス・スティフツング
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-352779
公開番号（公開出願番号）：特開平10-206142
出願日： 1997年12月22日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】 座標測定装置の走査ヘッド(2)及びその走査ヘッドに移動自在に固定された走査ピン(19)が目標データ(Pi)に従って制御されつつ走行され且つ工作物(15)を測定する際の動作速度を向上させる。【解決手段】 走査ピン(19)は測定すべき工作物表面に当接されるか又は測定すべき工作物表面から離間されるとき、停止せずに、曲線を描くように移動させられる。その際、当接時又は離間時の走査ヘッド(2)の移動方向(↑V↑res)と、当接点又は離間点(Pauf,Pab)における工作物表面の接線平面への移動方向の投影(↑V↑proj)とが成す角度(αauf,αab)を30°より小さく選択する。

請求項（抜粋）：

座標測定装置の走査ヘッド(2)及びその走査ヘッドに移動自在に取り付けられた走査ピン(19)が目標データ(Pi)に従って制御されつつ走行し、且つ工作物(15)を測定するために、走査ピン(19)は測定すべき工作物表面に当接されるか又は測定すべき工作物表面から離間されるような座標測定装置を制御する方法において、走査ピンを当接又は離間するときの走査ヘッド(2)の移動方向(↑V↑ves)と、当接点又は離間点(Pauf,Pab)における工作物表面の接線平面への移動方向の投影(↑V↑proj)とが成す角度は30°より小さい方法。

IPC (2件)：

G01B 21/00 ,  G01B 5/20 101

FI (2件)：

G01B 21/00 B ,  G01B 5/20 101 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 輪郭形状測定方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-200093   出願人：株式会社東京精密
• 特開平1-035311
  
• 特開昭60-127986
  
• 特開昭57-176419