特許

J-GLOBAL ID：200903000252107997

電子ビーム描画装置

発明者： 安藤 公明 ,  橘 貢 ,  高橋 弘之
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-036030
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232208
出願日： 1996年02月23日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】静電偏向器を複数用いた電子ビーム描画装置で、互いの偏向信号にクロストークノイズが発生した場合にも、描画位置精度を劣化させず、高精度に描画を行う。【解決手段】待ち時間の長いショット待ち時間制御回路と、待ち時間の短いショット待ち時間制御回路を設け、第1番目のショットか第2番目以降のショットかによってこれを切り替え、第1ショットの待ち時間を第2ショット以降の待ち時間より長くする。

請求項（抜粋）：

複数の静電偏向器を具備し、第1の静電偏向器で電子ビームを大きく偏向し、第2の静電偏向器で高速に偏向して、ウエハ上に図形を描画する多段静電偏向の電子ビーム描画装置で、前記第1の静電偏向器に偏向電圧を印加し、前記第1の静電偏向器による偏向位置が整定するまで待ち時間を設けた後に、前記第2の静電偏向器に偏向電圧を印加し、さらに、前記第2の静電偏向器による偏向位置が整定するまで待ち時間を設けた後、電子ビームをショットして順次図形を描画する装置において、第1番目のショットと2番目以降のショットとで、偏向整定待ち時間を変化させる手段を設け、前記第1番目のショットの待ち時間を第2番目以降のショットの待ち時間より長くすることを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B