特許
J-GLOBAL ID:200903000261869743
銅の電解精製方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-113848
公開番号(公開出願番号):特開2000-309893
出願日: 1999年04月21日
公開日(公表日): 2000年11月07日
要約:
【要約】【課題】 銅の電解精製において、電解液に溶出せずに沈降するCu粉等の可溶成分をスライム化せずに処理を行い、スライム処理工程での処理負荷を低減する銅の電解精製方法を提供する。【解決手段】 電解槽中で粗銅をアノードとして通電し、電解液中に溶解させ、カソードに銅を電析させる銅の電解精製において、電解槽の底部を不溶性アノードとなり得る材質で実質的に構成する底板を使用する。前述のように構成し、電解スライムを前記底板上に堆積させ、前記底板をアノードと電気的に接続させ、陽極として通電することにより、スライムを溶解させる。
請求項(抜粋):
電解槽中で粗銅をアノードとして通電し、電解液中に溶解させ、カソードに銅を電析させる銅の電解精製において、電解槽の底部を不溶性アノードとなり得る材質で実質的に底板を構成し、電解スライムを前記底板上に堆積させ、前記底板を電気的に陽極として通電することにより、スライムの溶解を促進させることを特徴とする銅の電解精製方法。
IPC (3件):
C25C 1/12
, C25C 7/00 301
, C25C 7/06 301
FI (3件):
C25C 1/12
, C25C 7/00 301
, C25C 7/06 301 Z
Fターム (8件):
4K058AA11
, 4K058AA21
, 4K058BA21
, 4K058BB03
, 4K058CA04
, 4K058DD02
, 4K058DD06
, 4K058EC04
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