特許

J-GLOBAL ID：200903000273275040

オルガノポリシロキサンの精製方法及びその精製方法により得られるオルガノポリシロキサン

発明者： 坂本 隆文 ,  田中 昌一 ,  藤木 弘直
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-337887
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146024
出願日： 2000年11月06日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：

【要約】【課題】 低分子シロキサン、特に20量体までの環状シロキサンの含有量が少ないオルガノポリシロキサンを収率良く、容易に得ることができる精製方法、及びその精製方法により精製されたオルガノポリシロキサンを提供する。【解決手段】 下記一般組成式(1):R1aSiO(4-a)/2 (1)(式中、R1は水素原子、水酸基又は炭素数1〜20の非置換若しくは置換の一価炭化水素基であり、aの値は1.0〜2.5の任意の数である)で表わされるオルガノポリシロキサンを、カラムの充填剤として炭化水素基で修飾したシリカゲルを、溶離液として非極性溶媒と極性溶媒との混合溶媒を使用した液体クロマトグラフィーに供することにより、前記オルガノポリシロキサンに含まれる低分子シロキサンを除去する精製方法。

請求項（抜粋）：

下記一般組成式(1):R1aSiO(4-a)/2 (1)(式中、R1は水素原子、水酸基又は炭素数1〜20の非置換若しくは置換の一価炭化水素基であり、aの値は1.0〜2.5の任意の数である。)で表わされるオルガノポリシロキサンを、カラムの充填剤として炭化水素基で修飾したシリカゲルを、溶離液として非極性溶媒と極性溶媒との混合溶媒を使用した液体クロマトグラフィーに供することにより、前記オルガノポリシロキサンに含まれる低分子シロキサンを除去することを特徴とするオルガノポリシロキサンの精製方法。

Fターム (12件)：

4J035BA03 ,  4J035CA01N ,  4J035CA052 ,  4J035CA09K ,  4J035CA11K ,  4J035CA13K ,  4J035CA19K ,  4J035CA26K ,  4J035EB08 ,  4J035LA03 ,  4J035LB02 ,  4J035LB03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シリコーンオイルの精製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-334091   出願人：信越化学工業株式会社
• 低分子シロキサンを極く少量しか含まないオルガノポリシロキサンオイルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-152600   出願人：信越化学工業株式会社
• オルガノポリシロキサンの精製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-151003   出願人：東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社