特許
J-GLOBAL ID：200903000275062397
基板の表面処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-183596
公開番号（公開出願番号）：特開平8-115969
出願日： 1988年06月25日
公開日（公表日）： 1996年05月07日
要約：
【要約】【目的】 基板の表面処理を速やかに、かつ、むらなく行なわせることができる基板の表面処理装置を提供する。【構成】 搬送ローラR1から移載され表面全体に表面処理液の液層10が形成された基板Wを水平姿勢に保持して水平方向へ往復移動させる移送ローラR2を設け、移送ローラに保持された基板が所定距離D1だけ離間した2つの位置間を処理時間内繰り返し往復移動するように、2つの位置のそれぞれに基板が到達した時点で移送ローラR2の基板移送方向を反転させるように構成する。
請求項（抜粋）：
基板を水平姿勢に保持して水平方向へ搬送する基板搬送手段と、この基板搬送手段の上方に配設され、基板搬送手段によって搬送される基板の表面に表面処理液を供給してその基板の表面全体に表面処理液の液層を形成する処理液供給手段と、前記基板搬送手段に連続して配設され、基板搬送手段から移載された基板を水平姿勢に保持して水平方向へ往復移動させる基板移送手段と、前記基板搬送手段から前記基板移送手段へ移載された基板が所定距離だけ離間した2つの位置間を処理時間内繰り返し往復移動しながら基板移送手段に保持されるように、前記2つの位置のそれぞれに基板が到達した時点で基板移送手段の基板移送方向を反転させる方向切換え手段と、を有することを特徴とする基板の表面処理装置。
IPC (7件)：
H01L 21/68
, C23F 1/08 101
, C23F 1/08 102
, G03F 7/30 501
, H01L 21/027
, H01L 21/304 341
, H01L 21/306
H01L 21/30 569 D
, H01L 21/306 J
