特許

J-GLOBAL ID：200903000284709409

X線露光装置

発明者： 桑原 理 ,  石橋 頼幸
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-175584
公開番号（公開出願番号）：特開平5-021320
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：

【要約】【目的】感光基板上の露光領域に必要な量のX線をほぼ均一に照射できるシンクロトロン放射光を用いたX線露光装置を提供する。【構成】ビームライン22から出た揺動X線ビーム34は、照射領域設定装置19、マスク20を介して可動形の基板ステージ24に保持された感光基板21の露光領域に照射される。照射領域設定装置19には第2のX線センサ31が設けてあり、基板ステージ24には第1のX線センサ33が設けてある。実露光を行う前に両センサの出力を比較測定し、実露光時には第2のX線センサ31の出力に基いて露光領域のX線量を測定する。また、第1のX線センサ33と照射領域設定装置19とは露光領域内のX線強度分布を正確に測定するのに寄与する。

請求項（抜粋）：

ストレッジリングと、このストレッジリングからシンクロトロン放射光を取出す手段と、この手段によって取出されたシンクロトロン放射光中のX線成分を取出す手段と、この手段によって取出されたX線ビームの照射対象となる感光基板を支持する可動形の基板ステージと、この基板ステージの前面に配置されて露光用のマスクを保持するマスクステージと、前記ストレッジリングから前記マスクステージまでの経路に揺動自在または移動自在に配置されて前記X線ビームの照射領域を拡大する反射ミラーとを備えたX線露光装置において、前記基板ステージに設けられた第1のX線センサと、前記ストレッジリングから前記マスクステージまでの間に前記X線ビームの一部を検出可能に設けられ、実露光時に前記第1のX線センサの出力模擬に供される第2のX線センサとを具備してなることを特徴とするX線露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521