特許
J-GLOBAL ID:200903000291234203
多層膜の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-043263
公開番号(公開出願番号):特開平11-236662
出願日: 1998年02月25日
公開日(公表日): 1999年08月31日
要約:
【要約】【課題】耐摩耗性に優れた多層膜の成膜方法を提供する。【解決手段】真空蒸着による多層膜の成膜において、最外層に二酸化珪素を用い、その二酸化珪素を酸素雰囲気下で成膜する。
請求項(抜粋):
最外層が二酸化珪素からなる層であり、それに接触する層が屈折率1.8以上の高屈折率層である基材を有する多層膜の製造方法において、該二酸化珪素を酸素雰囲気中で二酸化珪素を蒸発物として真空蒸着することを特徴とする多層膜の製造方法。
IPC (4件):
C23C 14/08
, G02B 1/11
, G02B 1/10
, G02B 5/28
FI (4件):
C23C 14/08 N
, G02B 5/28
, G02B 1/10 A
, G02B 1/10 Z
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