レーザーアニール処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：有近紳志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-024004
公開番号（公開出願番号）：特開平9-219379
出願日： 1996年02月09日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：

【要約】【課題】被処理基板(M)に均一なレーザー光照射を行う。【解決手段】無調整状態では、合成レーザービームのレーザー光強度分布が、レーザービーム(L1〜L5)の重ね合せ部分(T1〜T4)で必ず凸になるようにホモジナイザー(H1〜H5)を配置しておく(つまり、やや近めに並べておく)。また、前記重ね合せ部分(T1〜T4)の凸を矯正することが可能な強度分布調整手段(C1〜C4)を設けておく。【効果】ホモジナイザー(H1〜H5)のバラツキや特性変動を小さくしたり,据付け精度や走査ピッチ精度を高めるといった時間とコストがかかる工夫をしなくても、被処理基板(M)に均一な照射を行うことが出来る。

請求項（抜粋）：

複数のレーザー光源(S1〜S5)とホモジナイザー(H1〜H5)とにより矩形状または台形状のレーザー光強度分布(φ1〜φ5)を有するレーザービーム(L1〜L5)を発生し、各レーザービーム(L1〜L5)の一部を重ね合わせながら各レーザービーム(L1〜L5)を合成して幅広の合成レーザービームを作成し、その合成レーザービームを被処理基板(M)に照射するレーザーアニール処理装置(100)において、合成レーザービームの重ね合せ部分でのレーザー光強度を可変に低下させ得る強度分布調整手段(C1〜C4)を設けると共に、その強度分布調整手段(C1〜C4)により合成レーザービームの重ね合せ部分でのレーザー光強度を低下させない状態では合成レーザービームの重ね合せ部分でのレーザー光強度が他の部分でのレーザー光強度より大きくなるようにしたことを特徴とするレーザーアニール処理装置(100)。

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