特許
J-GLOBAL ID:200903000294195489

膜または層を形成するための方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-585350
公開番号(公開出願番号):特表2002-531913
出願日: 1999年12月01日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】有機金属錯体の膜を形成するための改良された方法であり、ここでは、有機錯体および不安定な金属塩が、一緒にまたは連続して気化され、そしてその蒸気は基板上へ凝縮され、その基板上に有機金属錯体の膜または層を形成する。この基板上に有機金属錯体の膜または層を形成する方法は、その基板上に有機金属錯体の膜または層を形成するために、金属化合物を気化する工程、有機錯体を気化する工程、および基板上へその蒸気を凝縮する工程を包含する。この方法は、改良された性能でエレクトロミネッセンスの膜を生成する。
請求項(抜粋):
基板上に有機金属錯体の膜または層を形成するための方法であって、該方法は、金属化合物を気化する工程、および有機錯体を気化する工程、およびその蒸気を基板上へ凝縮し、該基板上に該有機金属錯体の膜または層を形成する工程を包含する方法。
IPC (3件):
H05B 33/10 ,  C09K 11/06 660 ,  H05B 33/14
FI (3件):
H05B 33/10 ,  C09K 11/06 660 ,  H05B 33/14 B
Fターム (8件):
3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CA05 ,  3K007CB01 ,  3K007DA00 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 電界発光素子
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-150473   出願人:カシオ計算機株式会社

前のページに戻る