特許

J-GLOBAL ID：200903000306155950

薄膜組成物とこれを用いたX線露光用マスク

発明者： 大塩 祥三 ,  桑田 純 ,  松永 浩二 ,  松岡 富造
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-164446
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326380
出願日： 1992年06月23日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：

【要約】【目的】 薄膜デバイス、特に、X線露光用マスクのX線吸収体に適した、内部応力の低い薄膜を得ること。【構成】 Taと、WあるいはMo金属からなる金属板をターゲットとし、アルゴンガスをスパッタガスとしたスパッタ法を用い、Ta-W、Ta-Mo薄膜組成物中のW、Mo含有量が各々5〜25、5〜30at%である薄膜組成物を形成する。これにより、内部応力の低い薄膜組成物を得ることができ、X線露光用マスクのX線吸収体への適用により、露光対象物のパターン精度を向上できる。

請求項（抜粋）：

転移現象により複数の結晶構造を取り得る物質と、複数の結晶構造を取り得る物質への添加により転移現象を誘起する物質とを主体とし、結晶構造が転移する以前の結晶構造と転移後の結晶構造とが混在したことを特徴とする薄膜組成物。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-002109