特許

J-GLOBAL ID：200903000308278803

磁気ディスク及びその磁化パターン形成方法並びに磁気ディスク装置

発明者： 有田 陽二 ,  瀬尾 雄三 ,  池田 祥行
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-045680
公開番号（公開出願番号）：特開2001-312808
出願日： 2001年02月21日
公開日（公表日）： 2001年11月09日
要約：

【要約】【課題】 高密度な磁気ディスク装置のヘッド位置決めサーボを精度良くかつ簡便に行なうことができ、ひいては高密度記録が可能な磁気ディスク及び磁気ディスク装置を提供する。【解決手段】 基板上に少なくとも一層の磁性層を設けてなる磁気ディスクであって、 該磁性層には、磁化方向が半径方向かつ内周方向である磁区と磁化方向が半径方向かつ外周方向である磁区からなる半径方向磁化領域が、ほぼ等角度間隔に複数設けられてなる磁気ディスク。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくとも一層の磁性層を設けてなる磁気ディスクであって、該磁性層には、磁化方向が半径方向かつ内周方向である磁区と磁化方向が半径方向かつ外周方向である磁区からなる半径方向磁化領域が、ほぼ等角度間隔に複数設けられてなることを特徴とする磁気ディスク。

IPC (5件)：

G11B 5/596 ,  G11B 5/86 ,  G11B 5/86 101 ,  G11B 20/12 ,  G11B 21/10

FI (5件)：

G11B 5/596 ,  G11B 5/86 C ,  G11B 5/86 101 B ,  G11B 20/12 ,  G11B 21/10 B