遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-006864
公開番号（公開出願番号）：特開平11-184091
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】 ArFエキシマレーザー光源に対して好適で、ドライエッチング耐性と耐熱性が優れ、標準現像液適性を有し、基板密着性に優れるとともに、さらにレジストプロファイルが良好である遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】特定の骨格と特定の構造の基を含む繰り返し単位を含む重合体を含有する、酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂及び活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物において、前記酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂が、下記一般式〔I〕で表される繰り返し単位又は下記一般式〔II〕で表される繰り返し単位を含む重合体を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1 〜R16;同じでも異なってもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、-COOH基、-C(=O)-X-R17(ここでR17はアルキル基又は環状アルキル基を表す)、酸の作用により分解する基、-C(=O)-X-A-R18又は下記一般式(a)で示される基を表し、但し、R1 〜R8 又はR9 〜R16のうち少なくとも1つは酸の作用により分解する基であり、且つR1 〜R8 又はR9 〜R16のうち少なくとも1つは下記一般式(a)で示される基であるまた、一般式(a)で示される基においてZ以外の部分で炭素数11個以上である【化2】X;酸素原子、硫黄原子、-NH-、-NHSO2-、-NHSO2NH-から選ばれる2価の結合基、R18;-COOH、-COOR30、-CN、水酸基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、-CO-NH-R30、-CO-NH-SO2-R30又は【化3】R19〜R26;水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、R30;置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい環状アルキル基、R31、R32;同じでも異なってもよく、水素原子又はアルキル基、R33、R34;同じでも異なってもよく、水素原子又はアルキル基を表し、R33とR34とが一緒になって=O又は=Sを形成してもよいX2 ;置換基を有していてもよい2価の有橋式環状炭化水素基Z;水酸基、-CN、-OR30、-OC(=O)R30、-OC(=O)-OR30又は-NHR30A;単結合、アルキレン基、置換アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基又はウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせ、m/n;1/9〜9/1m+n、p+q;10〜100p、q;0〜100s、t;0〜10の整数a、b;1又は2を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 , C08L 45/00 , H01L 21/027 , C09D145/00

FI (4件)：

G03F 7/039 601 , C08L 45/00 , C09D145/00 , H01L 21/30 502 R

前のページに戻る