特許

J-GLOBAL ID：200903000331577478

新規の脱臭方法及び脱臭装置

発明者： 宮本 昌幸
出願人/特許権者： 日鉄鉱業株式会社
代理人 (1件)： 森田 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-113437
公開番号（公開出願番号）：特開2001-293079
出願日： 2000年04月14日
公開日（公表日）： 2001年10月23日
要約：

【要約】【課題】 脱臭効率が高く、しかも、触媒の寿命が長く、更には、触媒表面への分解物の付着を低減させることのできる新規の低温プラズマ脱臭方法及び脱臭装置を提供する。【解決手段】 被処理ガスを、低温プラズマ処理した後に酸化促進触媒と接触させる脱臭方法において、前記酸化促進触媒が湿潤状態にある。低温プラズマを発生させることのできる高圧放電部1と、酸化促進触媒6を充填した触媒部2とを含む脱臭装置10において、前記酸化触媒を湿潤状態にすることができる給水手段7を更に含む。

請求項（抜粋）：

被処理ガスを、低温プラズマ処理した後に酸化促進触媒と接触させる脱臭方法において、前記酸化促進触媒が湿潤状態にあることを特徴とする、前記脱臭方法。

IPC (6件)：

A61L 9/22 ,  A61L 9/00 ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 19/08 ,  B01J 23/72

FI (6件)：

A61L 9/22 ,  A61L 9/00 C ,  B01J 19/08 E ,  B01J 23/72 A ,  B01D 53/36 B ,  B01D 53/36 ZAB D

Fターム (35件)：

4C080AA07 ,  4C080AA09 ,  4C080BB02 ,  4C080CC04 ,  4C080CC07 ,  4C080HH05 ,  4C080KK08 ,  4C080LL03 ,  4C080QQ01 ,  4C080QQ11 ,  4D048AA01 ,  4D048AA03 ,  4D048AA05 ,  4D048AA08 ,  4D048AA22 ,  4D048BA05X ,  4D048BA35X ,  4D048BB01 ,  4D048EA03 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08B ,  4G069BC31B ,  4G069CA02 ,  4G069CA07 ,  4G069CA17 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EE10 ,  4G069FA02 ,  4G075AA03 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075CA47 ,  4G075CA54