化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-093735
公開番号（公開出願番号）：特開2007-224008
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2007年09月06日
要約：

【課題】良好なパターン形状を有するパターンを形成することができ、高い解像度を示す化学増幅型レジスト組成物を与える酸発生剤となる塩を提供する。【解決手段】式(I)または式(II)で示される塩。(Q1、Q2は互いに独立にフッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表し、環Xは環Xの一部を形成するように記載された二つの炭素原子とともに形成する炭素数3〜30の、式(I)においては=Oと結合している、式(II)においては-OHと結合している単環式または多環式炭化水素基を表し、A+は有機対イオンを表す。式(I)および式(II)中の環Xは炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜4のペルフルオロアルキル基、炭素数1〜6のヒドロキシアルキル基、水酸基又はシアノ基を置換基として含んでいてもよい。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)または式(II)で示されることを特徴とする塩。

IPC (7件)：

C07C 309/17 , G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 303/22 , C07C 381/12 , C07D 333/46 , C09K 3/00

FI (7件)：

C07C309/17 , G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C303/22 , C07C381/12 , C07D333/46 , C09K3/00 K

Fターム (23件)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AA03 , 4H006AB48 , 4H006AB80 , 4H006AC41 , 4H006AC48 , 4H006BA28 , 4H006BA36 , 4H006BE10

引用特許：

出願人引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-039501 出願人：住友化学工業株式会社

審査官引用 (1件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-039501 出願人：住友化学工業株式会社

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