特許

J-GLOBAL ID：200903000337607557

耐湿反射防止膜

発明者： 藤井 秀雄 ,  荒木 清
出願人/特許権者： 旭光学工業株式会社
代理人 (1件)： 三浦 邦夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-078694
公開番号（公開出願番号）：特開平7-287101
出願日： 1994年04月18日
公開日（公表日）： 1995年10月31日
要約：

【要約】【目的】 高湿度雰囲気に曝されて表面に水滴が生じた後に蒸発して残ったフローマークを簡単に拭き取ることができる反射防止膜を提供すること。【構成】 光学ガラス基板上に、設計波長550nmで光学膜厚234〜316nmのSiO2 から成る第一層、光学膜厚43〜58nmのHfO2 又はTa2 O5 から成る第二層、光学膜厚34〜46nmのSiO2 から成る第三層、光学膜厚113〜153nmのHfO2 又はTa2 O5 から成る第四層、光学膜厚115〜155nmのSiO2 から成る第五層及び光学膜厚5〜15nmのパーフルオロアルキルシラザンから成る第六層を順次形成して構成されたことを特徴とする耐湿反射防止膜である。

請求項（抜粋）：

光学ガラス基板上に、設計波長550nmで光学膜厚234〜316nmのSiO2 から成る第一層、光学膜厚43〜58nmのHfO2 又はTa2 O5 から成る第二層、光学膜厚34〜46nmのSiO2 から成る第三層、光学膜厚113〜153nmのHfO2 又はTa2 O5 から成る第四層、光学膜厚115〜155nmのSiO2 から成る第五層及び光学膜厚5〜15nmのパーフルオロアルキルシラザンから成る第六層を順次形成して構成されたことを特徴とする耐湿反射防止膜。