気相反応方法及び装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川信一 , 野口賢照 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-007736
公開番号（公開出願番号）：特開2007-291591
出願日： 2007年01月17日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：

【課題】粉状あるいは粒子状の被反応物を反応ガスと接触させる連続バッチ的反応プロセスにおけるサイクルタイムを短縮した高生産性の気相反応方法及びを装置を提供する。【解決手段】把持体2に支持した粉状あるいは粒子状の被反応物を反応室30に装填し、該反応室30に反応ガスを導入して加熱下に気相反応を行い、該反応室30から前記把持体2と共に反応生成物を取り出す一連の操作を、新たな被反応物を順次供給しながら連続バッチ的に繰り返す気相反応方法と装置において、反応室30に開閉可能なゲート扉301aを介して隔離された予備加熱室20を設け、反応室30で行う気相反応工程と平行して、予備加熱室20で前記新たな被反応物を昇温処理することを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

把持体に支持した粉状あるいは粒子状の被反応物を反応室に装填し、該反応室に反応ガスを導入して加熱下に気相反応を行い、該反応室から前記把持体と共に反応生成物を取り出す一連の操作を、新たな被反応物を順次供給しながら連続バッチ的に繰り返す気相反応方法において、前記反応室に開閉可能なゲート扉を介して隔離した予備加熱室を設け、前記反応室で行う気相反応工程と平行して、前記予備加熱室で前記新たな被反応物を昇温処理することを特徴とする気相反応方法。

IPC (6件)：

D01F 9/127 , C01B 31/02 , B01J 29/76 , B01J 29/14 , B01J 19/24 , D01F 9/133

FI (6件)：

D01F9/127 , C01B31/02 101F , B01J29/76 M , B01J29/14 M , B01J19/24 Z , D01F9/133

Fターム (77件)：

4G075AA23 , 4G075AA62 , 4G075AA63 , 4G075BA01 , 4G075CA03 , 4G075CA34 , 4G075CA61 , 4G075CA63 , 4G075DA02 , 4G075DA11 , 4G075DA13 , 4G075DA18 , 4G075EA06 , 4G075EB01 , 4G075EC09 , 4G075ED13 , 4G075FC04 , 4G146AA11 , 4G146AA12 , 4G146AB06 , 4G146AC16B , 4G146AC27B , 4G146AD21 , 4G146AD22 , 4G146AD23 , 4G146AD24 , 4G146AD29 , 4G146AD37 , 4G146BA12 , 4G146BA48 , 4G146BB06 , 4G146BB22 , 4G146BC23 , 4G146BC27 , 4G146BC33B , 4G146BC37B , 4G146BC38B , 4G146BC42 , 4G146BC44 , 4G146BC48 , 4G146CA08 , 4G146CA09 , 4G146CA11 , 4G146CA15 , 4G146DA03 , 4G146DA12 , 4G146DA23 , 4G146DA27 , 4G146DA29 , 4G146DA30 , 4G146DA44 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA07A , 4G169BA07B , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169CB81 , 4G169DA05 , 4G169EA01Y , 4G169FA02 , 4G169FB14 , 4G169FB18 , 4G169ZA05B , 4G169ZA32B , 4L037CS03 , 4L037FA02 , 4L037FA04 , 4L037PA03 , 4L037PA06 , 4L037PA07 , 4L037PA11 , 4L037PA21 , 4L037PA28 , 4L037PC05

引用特許：

出願人引用 (1件)

気相反応方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-219253 出願人：東レ株式会社

前のページに戻る