特許
J-GLOBAL ID：200903000356926345
成膜装置、成膜方法、セラミック膜、無機構造体、及び、デバイス
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
宇都宮 正明
, 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-360517
公開番号（公開出願番号）：特開2007-162077
出願日： 2005年12月14日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
【課題】緻密でテーパー角が大きい無機構造体を製造するのに適した成膜装置を提供する。【解決手段】原料粉を基板に吹き付けることにより原料粉を基板上に堆積させるエアロゾルデポジション法を用いる成膜装置であって、原料粉をガスによって分散させることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成部と、基板が固定される基板ステージと、エアロゾル生成部によって生成された原料粉のエアロゾルを、基板に向けて噴射するノズルと、該ノズルと基板との間に配置され、ノズルから噴射された原料粉を通過させることにより、該原料粉の流れの方向を調整する微粒子流方向調整ガイドとを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
原料粉を基板に吹き付けることにより原料粉を基板上に堆積させるエアロゾルデポジション法を用いる成膜装置であって、
原料粉をガスによって分散させることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成手段と、
基板が固定される基板ステージと、
前記エアロゾル生成手段によって生成された原料粉のエアロゾルを、前記基板に向けて噴射するノズルと、
前記ノズルと前記基板との間に配置され、前記ノズルから噴射された原料粉を通過させることにより、原料粉の流れの方向を調整するガイド手段と、
を具備する成膜装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4K044BA12
, 4K044BB11
, 4K044BC14
, 4K044CA23
, 4K044CA51
, 4K044CA71
