特許

J-GLOBAL ID：200903000364606821

プレート型ヒータおよびその製造方法および薄膜製造装置

発明者： 清藤 真次
出願人/特許権者： 株式会社富士電機総合研究所
代理人 (1件)： 篠部 正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-003804
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204239
出願日： 1998年01月12日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：

【要約】【課題】温度の均一性に優れ、ガスの吸蔵や放出の起こらないプレート型ヒータとその製造方法を提供し、また、高純度で均一な薄膜を製造できる薄膜製造装置を提供する。【解決手段】シース発熱体22が金属からなる伝熱プレート21に内蔵されてなり、片面を加熱面とするプレート型ヒータにおいて、前記伝熱プレートと、その加熱表面に平行に他の面に形成された発熱体溝21aの底に設置された前記シース発熱体と、この発熱体溝とシース発熱体との間に隙間なく鋳込まれた金属の充填物25とからなり、さらにこの充填物を伝熱プレートに溶接(溶接部26)しておく。またスパッタまたはプラズマ化学気相成長による金属または半導体の薄膜を形成する薄膜製造装置にプレート型ヒータを備える。

請求項（抜粋）：

シース発熱体が金属からなる伝熱プレートに内蔵されてなり、片面を加熱面とするプレート型ヒータにおいて、前記伝熱プレートと、その加熱表面に平行に他の面に形成された発熱体溝の底に設置された前記シース発熱体と、この発熱体溝とシース発熱体との間に隙間なく鋳込まれた金属の充填物とからなり、さらにこの充填物は伝熱プレートに溶接されていることを特徴とするプレート型ヒータ。

IPC (3件)：

H05B 3/20 398 ,  C23C 14/24 ,  H01L 21/205

FI (3件)：

H05B 3/20 398 ,  C23C 14/24 K ,  H01L 21/205