特許
J-GLOBAL ID：200903000364970884
マイクロ光素子を製造するシステム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-072904
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107768
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：
【要約】【目的】 マイクロ光素子を高い信頼性で製造し、大型のアレイの製造も可能にするマイクロ光素子製造システムを得ることを目的とする。【構成】 光ビーム路を走行する光ビームを供給するレーザ光源12と、この光ビームの強度を制御するポッケルセル28、シャッター30、および空間フィルタ32により構成された強度制御手段16と、光感応性材料の基体22を支持する2次元的に移動可能なプラットフォーム18と、光ビームの焦点を合わせるレンズ手段26と、光素子の光放射線強度マップによって限定されている予め選択されたパターンにしたがって基体22と焦点を合わせられた光ビーム42との間の相対運動を行うシステム制御装置53および段制御装置52を含む制御手段20と備えていることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
光ビーム路を限定する光放射線ビームを供給する放射線光源と、前記光放射線の強度を制御する前記光路に配置された手段と、光感応性材料の基体を支持する手段と、前記光放射線の焦点を合わせる手段と、少なくとも1つの光素子の光放射線強度マップによって限定されている予め選択されたパターンにしたがって前記基体と前記焦点を合わせられた光放射線手段との間の相対運動を行う手段とを具備している光素子を製造するシステム。
IPC (2件)：
引用特許：
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