特許
J-GLOBAL ID:200903000368287186

マイクロリソグラフィーによる接線偏光型投影露光

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-044689
公開番号(公開出願番号):特開2001-274083
出願日: 2001年02月21日
公開日(公表日): 2001年10月05日
要約:
【要約】【課題】 マイクロリソグラフィーによる新規な接線偏光型投影露光を提案する。【解決手段】 光アパーチャーでマイクロリソグラフィーにより投影露光する方法および装置において、レジストの入射面に対し垂直に光を偏光させることによりコントラストを増大させる。接線偏光として偏光を制御する装置、または照明システムおよび縮小レンズにおいてダイポール照明に適合した直線偏光が提示される。
請求項(抜粋):
偏光した光を用いてマイクロリソグラフィーにより像を生成する方法において、像面に入射し、干渉して像を生成する光束(81,82)が、入射面に対し垂直な方向の偏光方向を有していることを特徴とする方法。
IPC (5件):
H01L 21/027 ,  G02B 19/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00
FI (5件):
G02B 19/00 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 515 D

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