特許
J-GLOBAL ID：200903000387184975
浸漬型基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-353334
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166793
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】【目的】 装置全体を高くせず、また、スループットを低下させずに、処理液を基板処理槽内に良好に拡散して供給できるようにして、汚染を発生させずに均一な処理を可能にする。【構成】 基板支持部材5に支持された基板Wを収容する基板処理槽4の下部に処理液を供給する処理液供給部3を設け、処理済み液を基板処理槽4の上部開口からオーバーフローによって排出するように構成し、基板支持部材5の下方位置に、横断面形状が上下方向の両端側が先鋭で全体として連続面の表面を有する流線形の第1および第2の整流用格子部材6,7を水平方向に所定間隔を隔てて設け、その第1および第2の整流用格子部材6,7と処理液供給部3との間に、基板処理槽4内に供給された処理液を水平方向に拡散分配する複数個の案内板8を水平方向に所定間隔を隔てて設ける。
請求項（抜粋）：
基板支持部材に支持された基板を収容する基板処理槽の下部に処理液を供給する処理液供給部を設け、処理済み液を前記基板処理槽の上部開口からオーバーフローによって排出するように構成した浸漬型基板処理装置において、前記基板支持部材の下方位置に、横断面形状が上下方向の下端側が先鋭で全体として連続面の表面を有する流線形の整流用格子部材を水平方向に所定間隔を隔てて設け、その整流用格子部材と前記処理液供給部との間に、前記基板処理槽内に供給された処理液を水平方向に拡散分配する複数個の案内板を水平方向に所定間隔を隔てて設けたことを特徴とする浸漬型基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304 341
