特許
J-GLOBAL ID：200903000393113540
飽和地盤作成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-187366
公開番号（公開出願番号）：特開2002-005922
出願日： 2000年06月22日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：
【要約】【課題】 均一で緩詰めである砂質土層からなる飽和地盤の作成が短時間で低廉にできる飽和地盤作成装置を提供する。【解決手段】 砂質土Sが収容される土槽11であって砂質土Sの通過が不能で水Wの透過が自在である底板(分散板11a)を備えるものと、底板(分散板11a)の下側全体に亘って添設されるハウジング12と、砂質土Sの中を下側から上側まで透過する水Wを、ハウジング12及び底板(分散板11a)を通じて、土槽11に供給する供給手段(第一供給手段13)と、砂質土Sの中を透過した水Wを土槽11から排水する排水手段14と、を含み、砂質土Sの中における水Wの透過は、上昇速度が0.03cm/sから0.15cm/sまでの範囲にあって砂質土S全体に亘って略均等になされる飽和地盤作成装置である。
請求項（抜粋）：
砂質土が収容される土槽であって該砂質土の通過が不能で水の透過が自在である底板を備えるものと、前記底板の下側全体に亘って添設されるハウジングと、前記砂質土の中を下側から上側まで透過する水を、前記ハウジング及び前記底板を通じて、該土槽に供給する供給手段と、前記砂質土の中を透過した水を前記土槽から排水する排水手段と、を含み、前記砂質土の中における水の透過は、上昇速度が0.03cm/sから0.15cm/sまでの範囲にあって該砂質土全体に亘って略均等になされることを特徴とする、飽和地盤作成装置。
IPC (3件)：
G01N 33/24
, E02D 1/00
, E02D 33/00
G01N 33/24 C
, E02D 1/00
, E02D 33/00
