特許
J-GLOBAL ID:200903000404282510

回転シリンダにより形成されたビーム画成スリットを有する荷電粒子ビーム装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 竹内 澄夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-016022
公開番号(公開出願番号):特開平9-312144
出願日: 1997年01月14日
公開日(公表日): 1997年12月02日
要約:
【要約】【課題】荷電粒子ビーム装置内で使用するための,汚染が少なく寿命が長いスリット組立体を与える。【解決手段】荷電粒子ビームがビーム進路に沿って方向付けられるところの荷電粒子ビーム装置内で使用するためのスリット組立体が与えられる。該スリット組立体はイオン・インプランター用の質量分解スリット組立体である。スリット組立体は互いに離隔された第1及び第2シリンダを含む。ビーム進路に近接する第1及び第2シリンダの対向面は荷電粒子ビームを通過させるためのスリットを画成する。第1及び第2シリンダはそれぞれ第1及び第2中心軸を有する。スリット組立体はさらに,第1シリンダを第1中心軸の回りに,第2シリンダを第2中心軸の回りに回転させるための駆動装置を含む。スリット組立体は汚染の低下及び長い寿命をもたらす。スリット組立体はスリット幅を調節するための装置を有する。スリット組立体はさらに第1及び第2シリンダの温度を制御するための冷却装置を含む。
請求項(抜粋):
荷電粒子ビーム装置であって,ビーム進路に沿ってターゲットへ荷電粒子ビームを方向付けるための荷電粒子ビームソースと,前記ビーム進路に沿って配置されたスリット組立体であって,(i)互いに離隔され前記ビームの両反対側に配置された第1及び第2シリンダであり,前記ビーム進路に近接する第1及び第2シリンダの対向面が前記荷電粒子ビームの少なくとも一部を通過させ,前記第1及び第2シリンダはそれぞれ第1及び第2中心軸を有する,ところの第1及び第2シリンダと,(ii)前記第1シリンダを前記第1中心軸の回りに回転させかつ前記第2シリンダを前記第2中心軸の回りに回転させるための駆動装置と,から成るスリット組立体と,から成る装置。
IPC (3件):
H01J 37/317 ,  H01J 37/09 ,  H01L 21/265
FI (3件):
H01J 37/317 Z ,  H01J 37/09 A ,  H01L 21/265 603 B
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭57-050755

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