特許

J-GLOBAL ID：200903000409301830

平板の研摩方法及びその装置

発明者： 吉原 一夫 ,  城島 忠正 ,  吉原 信夫 ,  掃部 応輝 ,  吉原 義人 ,  澤田 康弘 ,  森下 一夫 ,  倉野 玉樹
出願人/特許権者： 株式会社関西プラント工業
代理人 (1件)： 伊丹 健次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-075364
公開番号（公開出願番号）：特開平6-262511
出願日： 1993年03月08日
公開日（公表日）： 1994年09月20日
要約：

【要約】【目的】 製品に色ムラ、彫りムラ、めっきムラなどを発生させることがなく、且つ研摩速度が速い平板の研摩方法を提供する。【構成】 前後一対の平板状の研摩部材9を研摩対象の平板10の表面に所定圧力で押し付けながらクランク43、44を介して互いに逆方向に回転運動させることにより、前記平板10の表面を平面研摩する構成とする。【効果】 前後一対の研摩部材9を平板10の表面に所定圧力で押し付けながら互いに逆方向に回転運動させるので、前記所定圧力が研摩面全体に均一に分布し、大形の平板10でも精密な均一鏡面研摩することができる。そのため、製品に色ムラ、彫りムラ、めっきムラなどが発生しない。また、前後一対の研摩部材9の相乗効果により、研摩速度が著しく向上する。

請求項（抜粋）：

前後一対の平板状の研摩部材を研摩対象の平板の表面に所定圧力で押し付けながらクランクを介して互いに逆方向に回転運動させることにより、前記平板の表面を平面研摩することを特徴とする平板の研摩方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-146072
  
• 特開昭51-051089
  
• 特開昭62-228364