特許
J-GLOBAL ID:200903000412721557

非特異吸着を低減するプローブ固定担体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 宮崎 昭夫 ,  石橋 政幸 ,  岩田 慎一 ,  緒方 雅昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-170777
公開番号(公開出願番号):特開2006-343270
出願日: 2005年06月10日
公開日(公表日): 2006年12月21日
要約:
【課題】 標的物質を検出するプローブ固定担体において、プローブ固定担体作製時のスポット間汚染やバックグラウンドエリアへのプローブ固定を防ぎ、また作製後においても非特異吸着が起きる事が無いプローブ固定担体の製造方法を提供する。【解決手段】 プローブを固定させるための反応性基を含む基材を材料とするプローブ固定担体の製造方法において、以下の(I)〜(III)の工程を含むプローブ固定担体の製造方法を提供する。(I)プロ-ブを含有する液滴を該基材上に点着する工程(II)該基材の点着領域以外に存在する反応性基を不活性化する工程(III)点着された液滴に存在する未反応プローブを除去する工程【選択図】 図1
請求項(抜粋):
プローブを固定させるための反応性基を含む基材を材料とするプローブ固定担体の製造方法において、以下の(I)〜(III)の工程を含むプローブ固定担体の製造方法。 (I)プロ-ブを含有する液滴を該基材上に点着する工程。 (II)該基材の点着領域以外に存在する反応性基を不活性化する工程。 (III)点着された液滴に存在する未反応プローブを除去する工程。
IPC (3件):
G01N 33/53 ,  G01N 33/543 ,  C12N 15/09
FI (5件):
G01N33/53 M ,  G01N33/543 525U ,  G01N33/543 525G ,  G01N33/543 501J ,  C12N15/00 F
Fターム (10件):
4B024AA11 ,  4B024AA19 ,  4B024CA04 ,  4B024CA05 ,  4B024CA06 ,  4B024CA09 ,  4B024CA11 ,  4B024HA08 ,  4B024HA14 ,  4B024HA19
引用特許:
出願人引用 (5件)
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