特許
J-GLOBAL ID：200903000413473271
位相シフトマスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344089
公開番号（公開出願番号）：特開平6-194820
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】レジスト層と位相シフト層との間の接着性を高め、パターン欠陥の発生を抑制し、位相シフトパターンの高精度な形成を可能な製造方法を提供する。【構成】少なくとも、該位相シフト部をなす材料の層の上に金属薄膜層を形成し、しかる後にレジスト層を形成することを特徴とし、好ましくは、前記金属薄膜層をなす材料が、特にモリブデン、タンタル、タングステン、アルミニウム、あるいはニッケルからなることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法である。
請求項（抜粋）：
透明基板に遮光部と光透過部と位相シフト部とを備えた位相シフトマスクの製造方法において、少なくとも、該位相シフト部をなす材料の層の上に金属薄膜層を形成し、しかる後にレジスト層を形成することを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
