特許

J-GLOBAL ID：200903000413860240

潤滑装置

発明者： 植原 正光 ,  大野 秀男
出願人/特許権者： 株式会社テクノステート
代理人 (1件)： 矢島 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-221038
公開番号（公開出願番号）：特開2000-035042
出願日： 1998年07月21日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】 相対運動を行う2つの固体の間に設けられているクリアランスの多少に関係なく、その接触面に対して潤滑材を確実に、且つ、満遍無く供給して、2つの固体の相対運動を極めて少い摩擦抵抗の下で円滑に行えるようにする。【解決手段】 相対運動を行う2つの固体T,Hの一方又は両方の接触面に、多数の微小な窪みP...を並べて凹設し、これ等各窪みP...の中に潤滑材Sを供給充填する。

請求項（抜粋）：

相対運動を行う2つの固体のいずれか一方又は両方の接触面に、多数の微小な窪みを並べて凹設し、これ等各窪みの中に潤滑材を供給充填するように構成したことを特徴とする潤滑装置。

IPC (3件)：

F16C 33/10 ,  C23C 26/00 ,  C10N 40:02

FI (2件)：

F16C 33/10 Z ,  C23C 26/00 K

Fターム (14件)：

3J011CA05 ,  3J011JA01 ,  3J011KA07 ,  3J011LA04 ,  3J011MA03 ,  4K044AA02 ,  4K044BA18 ,  4K044BA21 ,  4K044BB01 ,  4K044BB14 ,  4K044BC01 ,  4K044CA12 ,  4K044CA14 ,  4K044CA67