特許
J-GLOBAL ID：200903000423214258
成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
塩野入 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-132438
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326409
出願日： 1992年05月25日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【目的】 プラズマ成膜装置の整合回路における電力損失を低減し,プラズマ装置へ効率よく電力供給する。【構成】 高周波電力を供給する高周波電源20と、プラズマ発生装置10と、前記高周波電源20と前記プラズマ発生装置10との間に設けられる整合回路30とからなる成膜装置において、前記整合回路30と前記プラズマ発生装置10との間に前記整合回路30からみた前記プラズマ発生装置10側の入力インピーダンスの抵抗分を増大させる長さの同軸線路50を接続したものである。
請求項（抜粋）：
(a)高周波電力を供給する高周波電源と、(b)プラズマ発生装置と、(c)前記高周波電源と前記プラズマ発生装置との間に設けられる整合回路からなる成膜装置において、(d)前記整合回路と前記プラズマ発生装置との間に前記整合回路からみた前記プラズマ発生装置側の入力インピーダンスの抵抗分を増大させる長さの同軸線路を接続したことを特徴とする成膜装置。
引用特許：
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