走査形写真平版のためのオフ軸整列装置及び写真平版ツール

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-209736
公開番号（公開出願番号）：特開平8-190202
出願日： 1995年08月17日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】走査形写真平版装置においてウェファとマスクとの間の整列正確度を改善する。【構成】整列装置は、整列レチクルパターンを、整列マークを含むウェファ上に結像させる。走査の間に、整列レチクルイメージからの光線はウェファおよびその整列マークによって反射され、そして散乱される。明るいフィールドおよび暗いフィールド領域において、反射されそして散乱された光線を収集するために、多数の検出器が整列装置のピューピル平面に設けられる。結果的な信号およびそれらの分析は、ウェファの正確な整列の決定に導く。

請求項（抜粋）：

走査形写真平版ツールにおいて用いるための整列装置において、1つの照射源と、1つのレチクルと、光線を方向付けするための第1レンズ装置と、1つの開口ストップと、1つのビームスプリッタと、ウェファに光線を向けるための、そしてウェファから反射されそして散乱された光線を集めるための第2レンズ装置、ここにおいてウェファはプラスおよびマイナス整列マークをその上に持っている、と、ウェファから反射された光線を検出するための、前記ビームスプリッタと関連する第1検出器装置と、ウェファ上のプラス整列マークからの散乱された光線を検出するための第2検出器装置と、そしてウェファ上のマイナス整列マークからの散乱された光線を検出するための第3検出器装置と、含むことを特徴とする走査形写真平版において用いるための整列装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 521 , G03F 9/00 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 518

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭60-188953
特開昭59-101827
特開昭63-041023

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