特許
J-GLOBAL ID:200903000426321330

表面沈澱による高分子電解質カプセルの製造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-515408
公開番号(公開出願番号):特表2004-504931
出願日: 2001年08月01日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
本発明は、次の:(a)外被を形成するために必要とされる成分が溶解した形で含有されている、塩含有の液相中の適切な大きさのテンプレート粒子の分散液を準備する工程および(b)厚さ1〜100nmを有する外被がテンプレート粒子の周囲に生じるような条件下で、成分を液相からテンプレート粒子上に沈澱させる工程を含む、溶液から表面沈澱することにより、テンプレート粒子上に外被を施与することにより高分子電解質を含有するナノカプセルもしくはマイクロカプセルを製造する方法に関する。
請求項(抜粋):
次の: (a)外被を形成するために必要とされる成分が溶解した形で含有されている、塩含有の液相中の適切な大きさのテンプレート粒子の分散液を準備する工程および (b)厚さ1〜100nmを有する外被がテンプレート粒子の周囲に生じるような条件下で、成分を液相からテンプレート粒子上に沈澱させる工程 を有する、テンプレート粒子上に外被を施す方法。
IPC (2件):
B01J13/04 ,  C12N9/00
FI (2件):
B01J13/02 A ,  C12N9/00
Fターム (20件):
4B050CC07 ,  4B050JJ05 ,  4B050LL03 ,  4G005AA01 ,  4G005AA02 ,  4G005AB13 ,  4G005AB14 ,  4G005AB15 ,  4G005BA20 ,  4G005BB15 ,  4G005BB24 ,  4G005DB05Y ,  4G005DB30Y ,  4G005DD15Y ,  4G005DD15Z ,  4G005DD34X ,  4G005DE08X ,  4G005EA03 ,  4G005EA06 ,  4G005EA10

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