特許
J-GLOBAL ID：200903000426621083
ライン幅を狭められたシードビームを有する単一チャンバ式のガス放電レーザ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-531183
公開番号（公開出願番号）：特表2003-512730
出願日： 2000年10月10日
公開日（公表日）： 2003年04月02日
要約：
【要約】少なくとも毎秒1000パルスの繰返数で放電を発生するためのパルス電源を有する単一チャンバ式のガス放電レーザシステム。放電は、レーザ光学器械と共に、2つの持続期間の短いゲイン手段を生成し、一方はシードビームを生成するためのものであり、他方は、該シードビームを増幅するためのものである。チャンバの循環パスに沿ってレーザガスが循環され、電極(18A)及び放電は、ゲイン手段の一方から生じるデブリが、放電時に、チャンバの循環パスの少なくとも90%の周りを廻るまでは、該デブリが他方のゲイン手段に循環しないように配置されている。
請求項（抜粋）：
ライン幅を狭められたシードビームを有する単一チャンバ式のガス放電レーザシステムであって、 A)レーザガス及び熱交換機を含む単一放電チャンバと、 B)該単一放電チャンバ内部に配置され、少なくとも1つの放電領域を備えるように構成された、少なくとも2つの細長い電極と、 C)前記少なくとも1つの放電領域の各々において、少なくとも毎秒1000パルスの繰返数で放電を発生するように高電圧電気パルスを供給するパルス電力源と、 D)少なくとも1つの共鳴空洞を形成し、前記少なくとも1つの放電領域及び前記パルス電力源と共に、前記放電の間のみ存在する第1のゲイン手段及び第2のゲイン手段を形成し、また前記シードビームのライン幅を狭めるためのライン幅狭め手段を含む光学手段と、 E)ほぼ全ての前記レーザガスを、循環パスを形成する連続したパスにおいて、前記少なくとも1つの共鳴空洞の各々を通り、前記熱交換機を過ぎ、前記少なくとも1つの共鳴空洞の各々を通って戻るように循環させるように構成された横流ブロワを含む循環手段と、を含み、 前記電極は、放電時に、前記第1又は第2のゲイン手段の一方から生じるデブリが前記循環パスの少なくとも90%の周りを廻るまでは、該デブリが他方のゲイン手段に循環しないように配置されている、ことを特徴とするシステム。
IPC (4件)：
H01S 3/038
, H01S 3/034
, H01S 3/0971
, H01S 3/225
H01S 3/03 B
, H01S 3/03 G
, H01S 3/097 B
, H01S 3/223 E
5F071AA06
, 5F071CC01
, 5F071DD05
, 5F071EE04
, 5F071JJ07
, 5F071JJ10
