特許

J-GLOBAL ID：200903000437115783

回折光学素子及びその製造方法及び光学機器

発明者： 中林 正明
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-202368
公開番号（公開出願番号）：特開平11-030711
出願日： 1997年07月11日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：

【要約】【課題】 異方性ドライエッチングにより多層構造を有する高精度の回折光学素子を低コストで量産する。【解決手段】 2層構造の回折光学素子では、光学的特性から材料を選択し、第1層と第2層の回折格子それぞれの格子構造が所望の形状を得られるよう設計した型を用いて、加工したい材料の所定の位置に有機性被膜材料を成形し、異方性ドライエッチングを施して所望の形状に作成して第1層の回折格子11とし、分散の大きいTiO2 などを蒸着又はスパッタ技術で成膜し、そのTiO2 膜上に有機性被膜材料を型で成形し、異方性ドライエッチングでTiO2 を所望の形状に加工して第2層の回折格子12とする。

請求項（抜粋）：

複数層構造の回折格子を加工するに適した形状を有する型を用いて材料上に有機性被膜材料から成る所望の立体形状を成形し、異方性ドライエッチングにより前記材料に前記有機性被膜材料の立体形状を転写する工程を、成膜過程を挟んで複数回行うことによって形成することを特徴とする回折光学素子。