特許

J-GLOBAL ID：200903000440840197

光学用高分子シートの製造方法及びこの方法を用いて製造された表示素子用基板

発明者： 松田 豊 ,  田中 順二
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-365085
公開番号（公開出願番号）：特開2002-275285
出願日： 2001年11月29日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】【課題】 レジストの除去に使用される溶剤やフォトリソグラフィーの現像液、さらに表示素子に用いられる液晶ミクスチャーに対しても耐性を持つ上にさらに、平坦性や光学特性の向上、並びに真空雰囲気下に於けるガス発生を低減した高分子シートを提供する。【解決手段】 2又は3官能のアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる光学用高分子シートの製造方法において、ラマンスペクトルにおけるアクリロイル基又はメタクリロイル基の、C=Oを示す吸収ピークとC=Cを示す吸収ピークの面積比から求められる反応率が20〜55%の時に、第一段の架橋反応を停止させ、応力を緩和させた状態でさらに熱を加えて第二段の架橋反応を起こさせることによって、架橋反応率を75%以上に高める。

請求項（抜粋）：

2又は3官能のアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる光学用高分子シートの製造方法において、ラマンスペクトルにおけるアクリロイル基又はメタクリロイル基の、C=Oを示す吸収ピークとC=Cを示す吸収ピークの面積比から求められる反応率が20〜55%の時に、第一段の架橋反応を停止させ、応力を緩和させた状態でさらに熱を加えて第二段の架橋反応を起こさせることによって、架橋反応率を75%以上に高めることを特徴とする光学用高分子シートの製造方法。

IPC (9件)：

C08J 5/18 CEY ,  C08F 2/00 ,  C08F 20/20 ,  C08F 20/26 ,  C08F 20/34 ,  C08F 20/38 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L 33:00

FI (10件)：

C08J 5/18 CEY ,  C08F 2/00 C ,  C08F 2/00 Z ,  C08F 20/20 ,  C08F 20/26 ,  C08F 20/34 ,  C08F 20/38 ,  G02B 1/04 ,  G02F 1/1333 500 ,  C08L 33:00

Fターム (33件)：

2H090HC13 ,  2H090JB03 ,  2H090JC08 ,  4F071AA33 ,  4F071AF30 ,  4F071AH12 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BB12 ,  4F071BC01 ,  4J011AB13 ,  4J011AC03 ,  4J011AC04 ,  4J011CA02 ,  4J011CA08 ,  4J011CC10 ,  4J100AL66P ,  4J100AL67P ,  4J100BA03P ,  4J100BA08P ,  4J100BA29P ,  4J100BA51P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC07P ,  4J100BC43P ,  4J100BC48P ,  4J100BC75P ,  4J100CA01 ,  4J100DA62 ,  4J100FA34 ,  4J100JA32

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-018223
  
• 特開平3-012837
  
• 特開昭63-191813
  
• 特開昭50-151164