特許

J-GLOBAL ID：200903000441415465

(メタ)アクリル酸エステル誘導体、酸感応性重合体及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： 中野 達也 ,  森 三佐雄
出願人/特許権者： ダイセル化学工業株式会社
代理人 (1件)： 後藤 幸久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-293563
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119588
出願日： 1998年10月15日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 光照射により速やかに現像液に溶解し、微細なパターンを安定且つ高い精度で形成できるフォトレジスト用樹脂組成物を得る。【解決手段】 フォトレジスト用樹脂組成物は、下記式(1)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、X及びYは、同一又は異なって、単結合又は酸素原子を示す。但し、X及びYの少なくとも一方は単結合である)で表される構造単位を有する重合体と光酸発生剤とを含む。前記重合体を構成する単量体には、例えば、下記式(2a)【化2】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、X1及びY1は、同一又は異なって、単結合又は酸素原子を示す。但し、X1が単結合の場合にはY1は酸素原子であり、X1が酸素原子の場合にはY1は単結合である)で表される(メタ)アクリル酸エステル誘導体などが含まれる。

請求項（抜粋）：

下記式(1)【化1】(式中、Rは水素原子又はメチル基を示し、X及びYは、同一又は異なって、単結合又は酸素原子を示す。但し、X及びYの少なくとも一方は単結合である)で表される構造単位を有する重合体と光酸発生剤とを含むフォトレジスト用樹脂組成物。

IPC (5件)：

C09D133/14 ,  C07D313/04 ,  C08F 20/28 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/039 501

FI (5件)：

C09D133/14 ,  C07D313/04 ,  C08F 20/28 ,  C08L 33/14 ,  G03F 7/039 501