特許
J-GLOBAL ID:200903000441517357

ノズルプレートの製造方法、インクジェットヘッド、ノズルプレート及びインクジェット記録装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-048404
公開番号(公開出願番号):特開平11-001000
出願日: 1998年02月27日
公開日(公表日): 1999年01月06日
要約:
【要約】【課題】 オリフィスの流体抵抗を低減することにより、インクジェットヘッドを高密度化しても必要なインク滴の吐出量を確保することのできるフェイスイジェクト型のインクジェットヘッドに用いるノズルプレートを提供する。【解決手段】(110)面方位の単結晶シリコン基板500の少なくとも両面に耐エッチング被膜502を形成する第1の工程と、オリフィス用凹部を形成するための第1の開口部510をこの耐エッチング被膜に形成する第2の工程と、この第1の開口部の所定部分に所定の未貫通孔512を形成する第3の工程と、この未貫通孔の形成された単結晶シリコン基板の湿式エッチングを行うことによりオリフィス用凹部110を形成する第4の工程と、をこの順序で実施するようにした。
請求項(抜粋):
(110)面方位の単結晶シリコン基板の少なくとも両面に耐エッチング被膜を形成する第1の工程と、オリフィス用凹部を形成するための第1の開口部をこの耐エッチング被膜に形成する第2の工程と、第1の開口部の所定部分に所定の未貫通孔を形成する第3の工程と、この未貫通孔の形成された単結晶シリコン基板の湿式エッチングを行うことによりオリフィス用凹部を形成する第4の工程と、をこの順序で有することを特徴とするノズルプレートの製造方法。
IPC (3件):
B41J 2/135 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055
FI (2件):
B41J 3/04 103 N ,  B41J 3/04 103 A

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