特許

J-GLOBAL ID：200903000451877858

電子ビーム照射装置およびそれを用いたガス処理装置

発明者： 井出 哲也
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-140615
公開番号（公開出願番号）：特開2002-331236
出願日： 2001年05月10日
公開日（公表日）： 2002年11月19日
要約：

【要約】【課題】 低電圧および大面積で電子ビームを発生する電子ビーム照射装置、ならびにそれを用いて発生させた非平衡プラズマによりガスを分解するガス処理装置を提供する。【解決手段】 電子ビーム照射装置は、互いに対向している二つの電極2・8間に電圧を印加して放出させた電子を照射する。そして、電極2・8の対向面の少なくとも一方には、カーボンナノチューブ19が配されており、カーボンナノチューブ19が配されている電極8に対向する電極2の背向面側に、電子透過特性を有する保護膜15を備え、電子ビーム13が上記保護膜15を透過して照射されるようになっている。また、ガス処理装置は、上記電子ビーム照射装置を備え、電子ビーム13によって発生する非平衡プラズマ3により、分解対象ガス5を分解する。

請求項（抜粋）：

互いに対向している二つの電極間に電圧を印加して放出させた電子を照射する電子ビーム照射装置であって、少なくとも一方の電極の対向面に、カーボンナノチューブが配されており、カーボンナノチューブが配されている電極に対向する電極の背向面側に、電子透過特性を有する保護膜を備え、電子ビームが上記保護膜を透過して照射されるようになっていることを特徴とする電子ビーム照射装置。

IPC (9件)：

B01J 19/12 ,  B01D 53/32 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/08 ,  B01J 19/24 ,  F24F 7/00 ,  G21F 9/02 ,  G21K 5/04 ,  H05H 1/48

FI (9件)：

B01J 19/12 C ,  B01D 53/32 ,  B01J 19/00 E ,  B01J 19/08 E ,  B01J 19/24 Z ,  F24F 7/00 B ,  G21F 9/02 Z ,  G21K 5/04 F ,  H05H 1/48

Fターム (27件)：

4G075AA03 ,  4G075AA42 ,  4G075AA45 ,  4G075AA63 ,  4G075BA01 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075BD05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA15 ,  4G075CA39 ,  4G075CA47 ,  4G075CA65 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EB31 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075EE36 ,  4G075FA14 ,  4G075FB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB03 ,  4G075FC01 ,  4G075FC04 ,  4G075FC07 ,  4G075FC11