特許
J-GLOBAL ID：200903000462198308
薄膜磁気ヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-078921
公開番号（公開出願番号）：特開平5-242428
出願日： 1992年02月29日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：
【要約】【目的】 下層コアあるいは上層コアのオーバーエッチングが無く、トラック幅精度に優れ信頼性の高い薄膜磁気ヘッドを提供する。【構成】 下層コア、コイル導体、上層コアが積層されてなる薄膜磁気ヘッドである。下層コアあるいは上層コアはフレームメッキで形成される。メッキ用電極である下地層は軟磁性下地層とする。軟磁性下地層のエッチング液に対するエッチングレートは、下層コアあるいは上層コアとなる軟磁性層を1.0としたときに0.5以下である。
請求項（抜粋）：
基板上に下層コア、コイル導体、上層コアが順次積層され、前記下層コア及び上層コアによって閉磁路が構成されてなる薄膜磁気ヘッドにおいて、上記下層コア及び/又は上層コアが耐エッチング性軟磁性下地層と軟磁性層からなる積層構造を有し、軟磁性層のエッチング液に対するエッチングレートを1としたとき耐エッチング性軟磁性下地層のエッチングレートが0.5以下であることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
引用特許：
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