特許
J-GLOBAL ID:200903000470549896

極短紫外領域の放射の光源を用いるリソグラフィ装置、およびこの領域内で広いスペクトル帯域を有する多層膜反射鏡

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外7名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-544085
公開番号(公開出願番号):特表2003-516643
出願日: 2000年12月07日
公開日(公表日): 2003年05月13日
要約:
【要約】極短紫外領域の放射の光源を用いるリソグラフィ装置、およびこの領域において広いスペクトル帯域を有する多層膜反射鏡。各反射鏡24,26,29は、第1物質からなる積層された複数の層ならびにこの第1物質と交互に入れ替わる第2物質からなる複数の層の積層体を有している。第1物質は、第2物質の原子番号より大きな原子番号を有している。隣接する一対の層の厚さは、積層体内における深さの単調関数になっている。光源22は、少なくとも一つのターゲット28を有し、このターゲットがターゲット面の一つに集束されるレーザビームとの相互作用によって光を放出する。他の面から放出された光の一部36が用いられる。本発明は、高集積度の集積回路を製造するのに使用することができる。
請求項(抜粋):
或る特定のパターンにしたがって露光される試料のための支持部(16)と、 前記特定のパターンを拡大された形状で有するマスク(24)と、 極短紫外領域内の放射の光源(22)と、 前記マスクが拡大形状のパターン像を作るよう、前記放射を前記マスクに向けて集め、移送するための光学手段(26)と、 前記像を縮小し、この縮小された像を、前記試料上に投影するための光学手段(29)と、を備え、 前記マスク、前記集光と移送のための光学手段、および前記縮小と投影のための光学手段は、複数の多層膜反射鏡を備え、それぞれの前記多層膜反射鏡は、基板(74)と、この基板上に、第1の物質からなる複数の層(76)ならびに前記第1の物質からなる層と交互に入れ替わる第2の物質からなる複数の層(78)の積層体とを備え、前記第1の物質は、前記第2の物質の原子番号よりも大きな原子番号を有し、前記第1および第2の複数の層は、協働して極短紫外線を反射し、前記積層体は、自由表面(80)を有して、反射される放射が該自由表面上に達するよう構成されているリソグラフィ装置において、 前記光源は、第1の面と第2の面とを有する少なくとも一つの固体ターゲット(28)を備え、該ターゲットは、このターゲットの前記第1の面(30)上に集束されたレーザビーム(34)と相互作用することにより極短紫外線を放出できるよう設けられ、該ターゲットは、このターゲットの前記第2の面(37)から、非等方的に極短紫外線の一部(36)を放出できるよう設けられ、かつ、前記集光と移送のための光学手段(26)は、前記光源の前記ターゲットの前記第2の面(37)から来る極短紫外線の一部(36)を前記マスク(24)に向けて移送するように設けられ、かつ、前記複数の層からなる積層体内の隣接する一対の層(76,78)の厚さは、前記積層体内における厚さの単調関数とされ、この厚さは、前記積層体の前記自由表面(80)から測られるものであることを特徴とするリソグラフィ装置。
IPC (5件):
H01L 21/027 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/28 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521
FI (6件):
G02B 5/26 ,  G02B 5/28 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 S
Fターム (17件):
2H048FA05 ,  2H048FA07 ,  2H048FA09 ,  2H048FA18 ,  2H048FA24 ,  2H048GA07 ,  2H048GA09 ,  2H048GA36 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2H097AA02 ,  2H097CA15 ,  2H097JA02 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GC03

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