電子素子基板表面処理液用フィルターカートリッジ

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (6件)：社本一夫 , 栗田忠彦 , 桜井周矩 , 村上清 , 細川伸哉 , 小磯貴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-128579
公開番号（公開出願番号）：特開2004-330056
出願日： 2003年05月07日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：

【課題】半導体産業において使用される電子素子基板表面処理用の薬液、特にアミン、アンモニウム塩などの塩基性化合物やフッ酸(HF)などを構成成分として含む液の精製に好ましく利用することのできるフィルターカートリッジを提供する。【解決手段】本発明にかかる電子素子基板表面処理用の薬液を処理して薬液中に含まれている金属不純物を除去するために用いるフィルターカートリッジは、処理対象の薬液の構成成分及び除去すべき金属不純物の種類に応じて、除去対象の金属不純物の存在形態に適合する官能基が導入されたフィルター材料を組み込んだことを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

電子素子基板表面処理用の薬液を処理して薬液中に含まれている金属不純物を除去するために用いるフィルターカートリッジであって、処理対象の薬液の構成成分及び除去すべき金属不純物の種類に応じて、除去対象の金属不純物の存在形態に適合する官能基が導入されたフィルター材料を組み込んだことを特徴とするフィルターカートリッジ。

IPC (5件)：

B01J45/00 , B01J47/12 , G03F7/30 , G03F7/42 , H01L21/304

FI (7件)：

B01J45/00 J , B01J45/00 K , B01J47/12 B , B01J47/12 E , G03F7/30 , G03F7/42 , H01L21/304 648F

Fターム (9件)：

2H096AA25 , 2H096AA26 , 2H096AA27 , 2H096BA01 , 2H096BA09 , 2H096CA01 , 2H096GA01 , 2H096LA03 , 2H096LA30

引用特許：

審査官引用 (7件)

レジスト成分からの金属不純物除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-234494 出願人：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
多孔質複合膜と方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平8-506015 出願人：ミリポアコーポレイション
有機高分子材料及びその製造方法並びにそれから構成される重金属イオン除去剤
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-283842 出願人：株式会社荏原製作所

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