特許

J-GLOBAL ID：200903000481656988

物質構造解析方法およびその装置

発明者： アレキサンダー ウリヤネンコフ ,  原田 仁平
出願人/特許権者： 理学電機株式会社
代理人 (1件)： 岡崎 謙秀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-258041
公開番号（公開出願番号）：特開2001-083106
出願日： 1999年09月10日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 解析する構造パラメータ値の高精度化を簡易、且つ短時間で行うことができ、優れた精度、且つ効率での物質構造解析を実現するこのできる、新しい物質構造解析方法およびその装置を提供する。【解決手段】 X線または粒子線の照射による物質試料からの反射現象および/または回折現象の測定データを利用して当該物質試料の構造パラメータ値を求める物質構造解析方法において、反射現象および/または回折現象の測定データが得られる物質試料の構造パラメータ値を予測し、予測した構造パラメータ値を遺伝子に当てはめたGAまたはμGAにより当該構造パラメータ値の高精度化を行う。

請求項（抜粋）：

X線または粒子線の照射による物質試料からの反射現象および/または回折現象の測定データを利用して当該物質試料の構造パラメータ値を求める物質構造解析方法において、反射現象および/または回折現象の測定データが得られる物質試料の構造パラメータ値を予測し、予測した構造パラメータ値を遺伝子に当てはめたGAまたはμGAにより当該構造パラメータ値の高精度化を行うことを特徴とする物質構造解析方法。

Fターム (9件)：

2G001AA01 ,  2G001BA14 ,  2G001BA15 ,  2G001BA18 ,  2G001FA29 ,  2G001FA30 ,  2G001KA12 ,  2G001KA20 ,  2G001LA01