特許
J-GLOBAL ID:200903000503647651

ガス供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-329847
公開番号(公開出願番号):特開平10-169896
出願日: 1996年12月10日
公開日(公表日): 1998年06月26日
要約:
【要約】【課題】 本発明はガス充填終了近くで微小流量によるガス充填が継続されることを課題とする。【解決手段】 ガス供給装置1のメモリ40には、圧力伝送器22により燃料タンク3に充填される圧力値が予め設定された設定圧力の所定範囲内に達したことが検出された後、質量流量計20により計測される流量値が所定流量になったときガス供給開閉弁19を閉弁させる制御プログラムI、あるいは圧力伝送器22により燃料タンク3に充填される二次圧力値が予め設定された設定圧力の所定範囲内に達したことが検出された後、二次圧力の圧力上昇率が所定値になったときガス供給開閉弁19を閉弁させる制御プログラムIIが格納されている。制御装置34は、上記メモリ40に格納された制御プログラムI,IIに基づいて、コンプレッサ12、開閉弁14,17,ガス供給開閉弁19の動作制御を実行する。
請求項(抜粋):
ガスが給送されるガス供給管路に開閉弁、流量計、機械式の制御弁、圧力検出手段を配設し、該制御弁により設定された圧力又は流量で被充填タンクにガスを充填するガス供給装置において、前記流量計により計測される前記ガス供給管路を流れる流量が所定流量になったとき前記開閉弁を閉弁させる制御手段を備えてなることを特徴とするガス供給装置。
IPC (4件):
F17C 5/06 ,  F17C 13/02 301 ,  F17C 13/04 301 ,  F23K 5/00 302
FI (4件):
F17C 5/06 ,  F17C 13/02 301 A ,  F17C 13/04 301 C ,  F23K 5/00 302
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開昭59-032663
  • ガス供給装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-203997   出願人:東京瓦斯株式会社, 大阪瓦斯株式会社, 東邦瓦斯株式会社, 西部瓦斯株式会社, トキコ株式会社
審査官引用 (1件)
  • 特開昭59-032663

前のページに戻る