特許
J-GLOBAL ID：200903000505536377
中空円筒形プレート型改質器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
堀田 実 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-052463
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250145
出願日： 1995年03月13日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：
【要約】【目的】 コーナー部が少なく過大な熱応力の発生部分が少なく、かつ改質ガスを高温のまま供給することができるプレート型改質器を提供する。【構成】 内管と外管の間に複数の燃焼室と改質室が交互に伝熱隔壁を隔てて積層された中空円筒形プレート型改質器。各燃焼室は分散室と一対の燃焼触媒室とからなる。周方向にA,B,C,D,E,F,Gの順で7つの領域に区分され、領域A,B,C,D,Eの外側に、貫通開口で連通したマニホールドがそれぞれ設けられている。分散室には、A,B間とC,D間に気密仕切板が設けられ、かつ領域E及びFの燃焼触媒室との隔壁に燃料噴射穴が設けられる。また、燃焼触媒室には、B,C間に気密仕切板、A,B間とC,D間に連通仕切板が設けられ、かつ領域D〜Aには燃焼触媒が充填されている。更に、改質室には、A,B間とD,E間に気密仕切板、A,G間、E,F間、及びF,G間に連通仕切板が設けられ、かつ領域Fには耐熱粒子、領域Gには改質触媒が充填されている。
請求項（抜粋）：
内管と外管の間にドーナツ状の複数の燃焼室と改質室が交互に伝熱隔壁を隔てて積層され、各燃焼室は、単一の分散室とその軸方向両側に配置された一対の燃焼触媒室とから構成される中空円筒形のプレート型改質器であって、全体が周方向にA,B,C,D,E,F,Gの順で7つの領域に区分され、領域A,B,C,D,Eの外管の外側には、外管を貫通する開口を介して連通した原料ガスマニホールド、排ガスマニホールド、空気マニホールド、燃料ガスマニホールド、及び改質ガスマニホールドがそれぞれ設けられ、各分散室は、領域A,B間及び領域C,D間に気密仕切板が設けられ、かつ領域E及びFの燃焼触媒室との隔壁に複数の燃料噴射穴が設けられ、各燃焼触媒室は、領域B,C間に気密仕切板、領域A,B間及び領域C,D間に貫通穴を有する連通仕切板がそれぞれ設けられ、かつ領域D,E,F,G,Aには燃焼触媒が充填されており、各改質室は、領域A,B間及び領域D,E間に気密仕切板、領域A,G間、領域E,F間、及び領域F,G間には連通仕切板がそれぞれ設けられ、かつ領域Fには耐熱粒子、領域Gには改質触媒が充填されている、ことを特徴とする中空円筒形プレート型改質器。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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