特許

J-GLOBAL ID：200903000512132885

マスクの作成方法ならびデバイス製造方法

発明者： 宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-231474
公開番号（公開出願番号）：特開2000-137319
出願日： 1999年08月18日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 高精度な露光転写が可能な透過型のマスクを提供すること。【解決手段】 パターンが形成されたメンブレンとこれを支持するマスク基板を有するマスクの作成方法であって、エレクトロンビームでパターンの描画する際に、該マスク基板に所定の力を与えて、マスクを露光装置に保持する際とほぼ同等の歪をメンブレンに与えてパターンの描画を行なう。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたメンブレンとこれを支持するマスク基板を有するマスクの作成方法であって、所定の力を与えてメンブレンに歪を与えた状態でパターンの描画を行うことを特徴とするマスクの作成方法。

IPC (3件)：

G03F 1/16 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/16 A ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 M