特許
J-GLOBAL ID：200903000516417159
気体水和物の製造方法及び製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高野 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-344203
公開番号（公開出願番号）：特開2001-157836
出願日： 1999年12月03日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】【課題】 薬品や触媒あるいは微粒子懸濁液等の水への添加を必要とせずに、簡単で安価な水和物の生成促進が可能な水和物製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】 本発明は以下のような特徴を有する水和物生成方法及び生成装置である。[1]磁場中を通過させた水を用いる気体水和物の製造方法。[2]水和物生成槽と、該水和物生成槽に水を供給する水供給配管と、前記水和物生成槽に気体を供給する気体供給配管と、前記水和物生成槽から水和物を排出する排出配管とを備えた気体水和物の製造装置において、前記水供給配管の少なくとも一部に磁場を及ぼす磁場発生手段を具備することを特徴とする気体水和物の製造装置。
請求項（抜粋）：
磁場中を通過させた水を用いる気体水和物の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01J 19/08 D
, C02F 1/48 A
4D061DA01
, 4D061DB06
, 4D061EA18
, 4D061EC04
, 4D061ED20
, 4D061FA20
, 4G075AA15
, 4G075BB10
, 4G075BD16
, 4G075CA42
, 4G075CA51
