特許
J-GLOBAL ID：200903000551464542
異物検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-236851
公開番号（公開出願番号）：特開平6-082381
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：
【要約】【目的】本発明は、ホトマスク等の回路パターン付基板、特に転写解像度の向上等を目的とした位相シフト膜を有するレチクル上に付着したサブミクロンオーダーの微細な異物を安定して検出する装置を提供することにある。【構成】斜方照明(2)により発生する散乱光をNA0.4以上の光学系(41)で試料裏面から集光し、フーリエ変換面上に設けた書き換え可能な空間フィルタ(44)により回路パターンからの回折光を遮光、光路を2分割して互いの光路に調整された位相差量を与える手段(49)と、検出器(51)上で結像し、干渉させる検出光学系(4)と、検出結果の処理系(5)から構成される。
請求項（抜粋）：
ホトマスクやレチクル等の回路パターンを有する透明または半透明基板試料上に付着した異物を検出する異物検査装置において、前記基板試料を載置してX,Y,Zの各方向へ任意に移動可能なステージおよびその駆動制御系からなる検査ステージ部と、前記基板試料の回路パターンが形成された面の表面を斜方から照射する照明系と、該照明系の照射により前記基板試料の上に発生する散乱光を集光し、検出光学系のフーリエ変換面上に設けた空間フィルタにより前記回路パターンの直線部分からの散乱光を遮光して、検出器上に結像させる検出光学系と該検出器の出力をしきい値を設定した2値化回路により2値化し、前記基板試料上の異物データを演算表示する信号処理系とを備えたことを特徴とする異物検査装置において、検出光学系の光路中で光路を2つに振幅分割し、それぞれに位相差量を与える手段と、位相差量を与えた後に再び光路を合成し、該2光路を検出器上で干渉させる構成にしたことを特徴とする異物検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G03F 1/08
, H01L 21/027
