ポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：絹谷信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-067284
公開番号（公開出願番号）：特開2002-267865
出願日： 2001年03月09日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：

【要約】【課題】吸収損失が少ないポリマ膜中の脱水酸基化処理方法及びそれを用いた光導波路を提供する。【解決手段】ポリマ光導波路用のポリマ膜2を加熱すると共に、マイクロ波を照射することによりポリマ膜2が表面及び内部から発熱するので、ポリマ膜2に十分な脱水酸基化処理が施され、吸収損失が減少する。

請求項（抜粋）：

ポリマ光導波路用のポリマ膜を加熱すると共に、マイクロ波を照射して上記ポリマ膜に脱水酸基化処理を施すことを特徴とするポリマ膜中の脱水酸基化処理方法。

IPC (4件)：

G02B 6/13 , C08J 7/00 CEY , C08J 7/00 302 , C08L 33:06

FI (4件)：

C08J 7/00 CEY Z , C08J 7/00 302 , C08L 33:06 , G02B 6/12 M

Fターム (14件)：

2H047KA04 , 2H047PA28 , 2H047QA05 , 2H047TA31 , 4F073AA32 , 4F073BA18 , 4F073BA22 , 4F073BA31 , 4F073BA33 , 4F073BA34 , 4F073BB01 , 4F073CA53 , 4F073CA65 , 4F073DA03

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開平4-214505
特開平4-214505
特開平1-183435

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