特許
J-GLOBAL ID:200903000559650264

流体処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北村 修一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-355803
公開番号(公開出願番号):特開2000-178003
出願日: 1998年12月15日
公開日(公表日): 2000年06月27日
要約:
【要約】【課題】 流体を処理する処理空間の複数が設けられた流体処理装置において、耐久性を確保しながら、コストダウンを図る。【解決手段】 流体を処理する処理空間Sの複数が設けられた流体処理装置において、処理空間Sを形成する容器Bが密接状態に並べられ、それら容器Bを並び方向に直交する方向での相対移動を許容する状態で並び方向両側から押し付ける押し付け手段が設けられ、容器Bが、並び方向に位置する一対の容器形成部材41を、その周辺部を溶接接続して構成され、一対の容器形成部材41の少なくとも一方が、周辺部を接続代として中央部が膨出する皿形状に形成されている。
請求項(抜粋):
流体を処理する処理空間の複数が設けられた流体処理装置であって、前記処理空間を形成する容器が密接状態に並べられ、それら容器を並び方向に直交する方向での相対移動を許容する状態で並び方向両側から押し付ける押し付け手段が設けられ、前記容器が、前記並び方向に位置する一対の容器形成部材を、その周辺部を溶接接続して構成され、前記一対の容器形成部材の少なくとも一方が、周辺部を接続代として中央部が膨出する皿形状に形成されている流体処理装置。
IPC (2件):
C01B 3/38 ,  H01M 8/06
FI (2件):
C01B 3/38 ,  H01M 8/06
Fターム (9件):
4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB23 ,  4G040EB44 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA09 ,  5H027BA16 ,  5H027BA17

前のページに戻る