特許

J-GLOBAL ID：200903000560005941

磁気ディスク用ガラス基板の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板

発明者： 後藤 誠 ,  丸山 泰正
出願人/特許権者： 旭テクノグラス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-005203
公開番号（公開出願番号）：特開2001-195732
出願日： 2000年01月05日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 グライドハイトを小さくして高密度記録を行なう磁気ディスク装置に用いるのに適した、表面性と平面性が良好な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、およびこの製造方法を用いた磁気ディスク用ガラス基板を提供する。【解決手段】 ガラス基板の表面を研磨したガラス基板を溶融塩に浸潰してイオン交換による化学強化処理を行った後、ガラス基板を0.1質量%以下のフッ酸溶液に浸漬して、基板表面の微小突起を除去する。また、化学強化処理後のガラス基板をオゾン雰囲気内に入れ紫外線を照射して表面の微小突起を除去する。

請求項（抜粋）：

ガラス素材をガラス基板に成形する成形工程と、前記ガラス基板の表面を研磨加工する研磨加工工程と、研磨加工された前記ガラス基板を溶融塩に浸潰してイオン交換による化学強化処理を行う化学強化処理工程と、化学強化処理の施された前記ガラス基板を0.1質量%以下のフッ酸溶液に浸漬するフッ酸処理工程とを有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。

IPC (4件)：

G11B 5/84 ,  C03C 15/00 ,  C03C 15/02 ,  C03C 21/00 101

FI (4件)：

G11B 5/84 Z ,  C03C 15/00 B ,  C03C 15/02 ,  C03C 21/00 101

Fターム (19件)：

4G059AA09 ,  4G059AB01 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AB13 ,  4G059AC03 ,  4G059BB01 ,  4G059BB04 ,  4G059BB14 ,  4G059HB03 ,  4G059HB13 ,  4G059HB14 ,  4G059HB23 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA19 ,  5D112GA28